Gartner分析师Alan Priestley称,0.55NA下一代EUV光刻机单价将翻番到3亿美元。
那么这么贵的机器,到底能实现什么呢?
ASML发言人向媒体介绍,更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺,将极度依赖高NA EUV光刻机。
当然,ASML并不能独立做出高NA EUV光刻机,还需要德国蔡司以及日本光刻胶涂布等重要厂商的支持。
ASML现售的0.33NA EUV光刻机拥有超10万零件,需要40个海运集装箱或者4架喷气货机才能一次性运输完成,单价1.4亿美元左右。
去年ASML仅仅卖了31台EUV光刻机,今年数量提升到超100台。